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Velox获美国NIST先进技术计划奖 328万美元项目资金用于GaN研发
更新时间: 2007-10-17 13:01:11  文章来源:    文章录入:zhuhonglin

据EE Times网站报道,GaN晶体管与二极管制造商Velox Semiconductor日前宣布,公司荣获美国商务部国家标准与技术研究院(National Institute of Standards and Technology,NIST)授予的先进技术计划(ATP)奖。

Velox因采用GaN-on-Si技术成功开发高电压(600与1200伏特)高电流(20与100安培)电子开关而获此殊荣。

公司将获得约328万美元的项目资金,其中包括为期两年200万美元的奖励基金及其他相关基金。这笔资金将大力促进Velox公司增强型场效应晶体管(FET)的研发。



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